大家好，来看一则(zé)突发消(xiāo)息。

　　美光公司在华销售(shòu)的(de)产品未(wèi)通(tōng)过网络安全审(shěn)查

　　据网信办消(xiāo)息，日前，网络安全审查(chá)办公室依(yī)法对美光(guāng)公司在(zài)华(huá)销售(shòu)产品(pǐn)进行了(le)网(wǎng)络安(ān)全审查(chá)。

　　审查(chá)发现，美光公司产品存在较(jiào)严重网(wǎng)络安全问题隐(yǐn)患，对我(wǒ)国(guó)关键(jiàn)信息基础设施(shī)供应链造成重大安全风(fēng)险(xiǎn)，影响我国(guó)国家安全。为此(cǐ)，网络安全审查办公室依法(fǎ)作出不予(yǔ)通过(guò)网(wǎng)络安全审查的结论。按照(zhào)《网络安(ān)全(quán)法》等法律法规，我国内关键信息(xī)基础(chǔ)设施的运营(yíng)者应停止(zhǐ)采购(gòu)美光公司产(chǎn)品。

　　此次对美光公司(sī)产品进行网络安全审查，目的是防范产品网(wǎng)络安全(quán)问题危(wēi)害国(guó)家关键信息基础设施安(ān)全，是维(wéi)护(hù)国家安全的必要措施。中国坚定(dìng)推(tuī)进高(gāo)水平(píng)对外开放，只要遵守中国(guó)法律法(fǎ)规要求(qiú)，欢迎(yíng)各(gè)国企业、各类(lèi)平台产(chǎn)品服务进入中(zhōng)国市场。

　　3月31日，中国网信网发(fā)文称(chēng)，为保(bǎo)障关键(jiàn)信(xìn)息基础设(shè)施供应链安(ān)全，防范产品问题隐患造成网络安全(quán)风险，维护国家(jiā)安全，依(yī)据《中华人民共和(hé)国国家安全法》《中(zhōng)华人(rén)民共和国网络安(ān)全法(fǎ)》，网络安全(quán)审夏天家中有小飞虫怎么办 夏天家中有小飞虫怎么消灭查办(bàn)公室(shì)按照《网络安(ān)全审查办法》，对美光公(gōng)司（Micron）在华(huá)销售的(de)产(chǎn)品实施网络安全审查。

　　美(měi)光是美国的存储芯片行业龙头，也是全球存储芯(xīn)片巨头之一(yī)，2022年(nián)收入来(lái)自中国市场(chǎng)收入从此前高峰(fēng)57％降至2022年约11％。根据(jù)市(shì)场咨(zī)询(xún)机构 Omdia（IHS Markit）统计，2021 年三(sān)星电子、 夏天家中有小飞虫怎么办 夏天家中有小飞虫怎么消灭铠(kǎi)侠、西部数据、SK 海力士、美光、Solidigm 在全球 NAND Flash （闪存）市(shì)场份额(é)约为(wèi) 96.76％，三星电子、 SK 海力(lì)士、美光在(zài)全球 DRAM （内(nèi)存）市场份额约为(wèi) 94.35％。

　　A股上市公司中，江(jiāng)波龙、佰维存储等公司(sī)披露过美光等国(guó)际存储厂商为公司供应(yīng)商。

　　美光在江波龙采购占比已经显(xiǎn)著下降，至少已经(jīng)不是主要大(dà)供应商(shāng)。

　　公告显示， 2021年美光(guāng)位列江波龙(lóng)第一大存储晶圆(yuán)供应商，采购(gòu)约31亿元，占比33.52％；2022年，江波龙第一大、第二大和第三大供(gōng)应(yīng)商(shāng)采(cǎi)购(gòu)金额(é)占比分别是26.28％、22.85％和(hé)5.76％。

　　目前江波龙已经在存(cún)储产业链上下游建立国内外(wài)广泛合作(zuò)。2022年年报显示(shì)，江(jiāng)波龙与三星、美光、西(xī)部数据(jù)等(děng)主要存储晶圆原厂签署了(le)长期合(hé)约，确保存储晶(jīng)圆供应(yīng)的稳定性(xìng)，巩固(gù)公司(sī)在下游市场的供应优(yōu)势，公司(sī)也与国内国(guó)产(chǎn)存储晶(jīng)圆原厂武汉长江(jiāng)存(cún)储、合(hé)肥长鑫保持(chí)良好的合(hé)作。

　　有券商(shāng)此前就分析，如(rú)果美光在中国区销售受到限(xiàn)制(zhì)，或将(jiāng)导致下游客户转(zhuǎn)而采购(gòu)国外三星、 SK海力士，国内长(zhǎng)江存储、长(zhǎng)鑫(xīn)存储等竞对产品

　　分析(xī)称，长存(cún)、长鑫的上游设备厂或从中(zhōng)受(shòu)益。存储器的生产已经演进到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工艺。另外NAND Flash现在已(yǐ)经进入(rù)3D NAND时代，2 维到(dào)3维的(de)结构(gòu)转变(biàn)使(shǐ)刻蚀和薄膜成为最关键、最大量(liàng)的加工设备。3D NAND每层均需要经过薄(báo)膜沉积工艺(yì)步骤，同时刻蚀(shí)目前前沿要(yào)刻到(dào) 60：1的深孔，未来(lái)可能会更深的(de)孔(kǒng)或者沟槽，催生更多设备需(xū)求。据东京电子披露，薄膜沉积设备及刻(kè)蚀占3D NAND产线资(zī)本开支合计为75％。自长江存(cún)储被加入美国限(xiàn)制名(míng)单，设备(bèi)国(guó)产(chǎn)化(huà)进程加速(sù)，看好(hǎo)拓(tuò)荆科(kē)技（薄膜沉积(jī)）等相(xiāng)关公司份(fèn)额提(tí)升，以及(jí)存储业务占(zhàn)比(bǐ)较高(gāo)的(de)华海清科(kē)（CMP）、盛美上(shàng)海（清洗）等收入增(zēng)长。

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