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夷洲今是何地,夷洲是哪里 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金(jīn)融界(jiè)4月24日(rì)消息,国家知识产权局局长申长雨在新闻发布会(huì)上表示,将(jiāng)统筹推进各类知识产权法律法(fǎ)规和(hé)制度规则的制(zhì)修(xiū)订工夷洲今是何地,夷洲是哪里(gōng)作。其中,修改完(wán)善集成电路布图设计保护条(tiáo)例,适应大规模(mó)集成电路发展(zhǎn)需要,助(zhù)力芯片产业做大(dà)做强,服务(wù)数(shù)字经(jīng)济(jì)更好发展(zhǎn)。

  加强大数据、人工(gōng)智能、基因技术等新领域新业态知识(shí)产权规则研究,助(zhù)力相关领(lǐng)域(yù)创新(xīn)发展。同时,积极(jí)参(cān)与知(zhī)识产权(quán)国际规则制(zhì)定,更好(hǎo)对接(jiē)高(gāo)标准国(guó)际经贸规则,助力高水(shuǐ)平(píng)对外开(kāi)放。

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